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2003 논문 입력

2014.04.07 10:38

QNPLab 조회 수:1567

정렬순서번호 37 
논문타이틀 [37] 

[37] "Direct electron-beam writing with high aspect ratio for fabricating Ion-Beam lithography mask", B. N. Lee, Y. H. Cho*, Y. S. Kim, W. Hong, and H. J. Woo, J. Kor. Phys. Soc. 42, S119 (2003).

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